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OIS-Four型(xing)RF離子源 2007-09-20

OIS-Four是本公司自行研制開發的(de)最適合(he)IAD蒸鍍的(de)小(xiao)型高性能(neng)的(de)射頻(RF)離(li)子源。


的小(xiao)口徑柵網，優良的離子電流(liu)密(mi)度(du)均勻性設計，使(shi)其成為本公司(si)OTFC-600型及OTFC-900型光(guang)學鍍膜機(ji)所最適配的離子源(yuan)。


OIS-Four型RF離子源適用于(yu)各種光(guang)學(xue)濾光(guang)片(pian)的(de)試制與(yu)生產,及其他領(ling)域的(de)研(yan)究(jiu)開發等用途,也可以用于(yu)高效率真空鍍膜過程中基(ji)板的(de)離子洗凈。


該產品也可適用于客(ke)戶現有鍍膜機的離子源追加(jia)改裝。