關(guān)于SPUTTER系列
NSC-2350是用于光學(xué)薄膜的金屬式濺射設(shè)備,尤其適用于大面積基板的系統(tǒng)。 可用于移動(dòng)終端設(shè)備、汽車(chē)等大面積面板的AR+AS膜。
- 特征
- 鍍膜面積:高1100mm×寬450 mm
- 6個(gè)陰極靶
- 用可選組件更換陰極
- 高反應(yīng)性等離子體源實(shí)現(xiàn)低吸收膜
- 自動(dòng)上下片基板搬送系統(tǒng)
- 通過(guò)優(yōu)化沉積和搬送系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)低顆粒薄膜
- 一個(gè)程序可鍍AR/AS膜
- 規(guī)格
- 真空腔體 裝片室:304不銹鋼,寬700mm×高1860 mm×深1760 mm卸片室: 寬700×高1860×深1760mm運(yùn)送室: 寬660×高1860×深1760mm工藝室:304不銹鋼,直徑2350 mm×高1950 mm
- 基板夾具 可選15– 22片
- 基板旋轉(zhuǎn)滾筒系統(tǒng) 直徑2245 mm, 滾筒式, 10rpm-50 rpm(可調(diào))
- 反應(yīng)源 ICP(電感耦合等離子體)
- 濺射源 雙旋轉(zhuǎn)陰極(可選平面靶材)
- 真空系統(tǒng) 粗抽泵,分子泵,冷阱
- 性能
- 極限壓力 裝片室:10Pa工藝室:≤2.0 × 10-4?Pa
- 抽氣速率 裝片室:≤8 分鐘 (從大氣到 10Pa)工藝室:≤40分鐘(從大氣到9.0×10-4?Pa)
- 工作條件
- 設(shè)備尺寸 7000 mm (寬) × 6600 mm (深)×4000 mm (高)
- 電源 3相+G, 380V±5%、300kVA、50/60Hz
- 水流量 ≥400升/分鐘(水壓:0.6-0.7 Mpa)
- 壓縮空氣 0.5 MPa - 0.7 MPa
- 總重重 約30000 kg