關(guān)于SPUTTER系列

OWLS-1800是專用于“半導(dǎo)體光學(xué)器件”的金屬模式濺射系統(tǒng),適用于12英寸的晶圓。該濺射系統(tǒng)可以擴(kuò)展應(yīng)用范圍(同時雙倍尺寸鍍膜,低溫鍍膜等)

特征
適用于多種晶圓尺寸(12“,10”,8“,6”和4“)
真空晶圓搬運機(jī)械手快速清潔的轉(zhuǎn)移系統(tǒng)
3個雙旋轉(zhuǎn)圓柱陰極
高反應(yīng)性等離子體源實現(xiàn)低吸收膜
其他模塊,例如光學(xué)厚度監(jiān)控儀(可選)
適用于EFEM并符合SEMI標(biāo)準(zhǔn)
規(guī)格
真空腔體 裝片室:寬820mm×高1455 mm×深740 mm
運送室:寬1070×高480×深1070mm
工藝室:寬2540×高745×深2285mm
基板夾具 10片(最大12英寸)
基板旋轉(zhuǎn)滾筒系統(tǒng) 直徑1800 mm×高48 mm, 滾筒式, 10 rpm-100 rpm(可調(diào))
反應(yīng)源 ICP(電感耦合等離子體)
濺射源 雙旋轉(zhuǎn)陰極(可選平面靶材)
真空系統(tǒng) 粗抽泵,分子泵,冷阱
性能
極限壓力 裝片室:10Pa
工藝室:≤5.0 × 10-4?Pa
抽氣速率 裝片室,運送室:5分鐘 (從大氣到 10Pa)
工藝室:≤40分鐘(從大氣到5.0×10-3??Pa)
工作條件
設(shè)備尺寸 6500 mm (寬) × 6000 mm (深)×3400 mm (高)
電源 3相+G, 380V±5%、125kVA、50/60Hz
水流量 ≥195升/分鐘
空氣壓力 0.5 MPa - 0.7 MPa
總重量 約13500 kg